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ISO/TS 23878是国际标准化组织发布的技术规范，专门规定了使用正电子湮没寿命测量技术来评估材料中纳米孔隙的标准化方法。该标准在纳米技术领域具有重要意义，为材料科学研究和工业应用提供了可靠的测量依据。正电子湮没技术能够精确检测材料内部的纳米级缺陷和孔隙结构。
正电子湮没是一个复杂的物理过程。首先，放射性同位素衰变产生正电子，正电子在材料中进行随机扩散运动。当正电子遇到纳米孔隙等缺陷时，会被俘获并在其中停留一段时间。最终正电子与电子湮没，产生特征伽马射线。不同大小的孔隙会导致不同的正电子寿命，大孔隙对应长寿命，小孔隙对应短寿命。
正电子湮没寿命测量系统由多个关键组件构成。正电子源通常使用钠22同位素，活度在10到50微居里之间。系统配备两个闪烁探测器，用于同时检测湮没产生的两个511千电子伏特伽马射线。光电倍增管将光信号转换为电信号，要求时间分辨率小于200皮秒。电子学系统包括恒比定时器和延时放大器，负责信号处理。数据采集系统记录时间谱，整个系统的时间分辨率应小于300皮秒。
样品制备是正电子湮没寿命测量中的关键环节。标准对样品的几何尺寸有严格要求，厚度应在0.5到2.0毫米之间，直径不小于10毫米，表面平整度要求小于10微米。不同材料类型如金属、陶瓷和聚合物都需要特定的制备流程。表面处理包括机械抛光和化学清洗，以去除表面污染和氧化层。样品必须在真空或惰性气体环境中存储，避免温湿度变化。任何表面缺陷都会显著影响测量结果的准确性。
测量程序包括五个关键步骤。首先进行系统校准，包括时间零点和能量刻度校准。然后正确安装样品并检查几何配置。接下来设置测量参数，如高压和阈值。数据采集要求统计计数大于一百万，测量时间通常为2到24小时。环境控制要求温度稳定在正负1摄氏度，湿度控制在60%以下。典型的寿命谱显示快慢两个组分，通过识别峰位和本底水平来评估数据质量。