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正电子湮灭技术是一种独特的材料表征方法，在金属合金研究中具有重要应用价值。该技术对材料中的缺陷高度敏感，能够进行非破坏性检测，具有原子尺度的分辨率。正电子在金属中运动时，会被各种缺陷捕获，通过分析湮灭信号可以获得材料微观结构的详细信息。
金属合金中存在多种类型的缺陷，正电子湮灭技术能够通过寿命谱分析精确识别这些缺陷。空位缺陷的寿命约为150到200皮秒，位错缺陷为250到350皮秒，晶界缺陷为400到500皮秒，析出相为600到800皮秒，而微孔洞的寿命可超过1000皮秒。不同缺陷类型在寿命谱中呈现特征峰，通过峰位和强度分析可以定量确定缺陷的类型和浓度。